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发光二极管的结构及其制作方法技术
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文档序号:3174912
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本发明公开了一种发光二极管的结构,其中包括N型GaN层、多量子阱层、P型AlGaN层,所述N型GaN与所述多量子阱层之间还间隔有多量子阱缓冲层,所述多量子阱缓冲层包含有一个或多个InGaN/GaN的复合结构。本发明还公开了一种上述发光二极管...
该专利属于上海蓝光科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海蓝光科技有限公司授权不得商用。
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