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本发明涉及一种用于清洗硅片的方法，包括（Ｓ１）用于清洗硅片表面的第一清洗步骤，其中利用根据标准清洗１的ＳＣ－１清洗溶液；（Ｓ２）用于清洗在第一清洗步骤中清洗的所述硅片表面的第二清洗步骤，其中利用根据标准清洗２的ＳＣ－２清洗溶液；（Ｓ３）用于...
该专利属于斯尔瑞恩公司所有，仅供学习研究参考，未经过斯尔瑞恩公司授权不得商用。

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