温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种可提高空间成像套刻检验精准度的光刻方法，用于将该光罩上的图形转移到涂布在硅衬底上的光刻胶上，该光罩上具有多个空间成像套刻标记图形。现有技术光刻时前烘工艺温度过低致使光刻胶硬度不足从而在后续曝光工艺所产生的氮气冲击下发生变形，...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。