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一种基底处理装置，它包括提供了用于进行基底处理过程的处理空间的处理室、其上保持着基底的基底保持部件以及安装在处理室的上侧处的气体分配板。所述气体分配板包括多个不对称形成的气体注入流动通道，用于将等离子体和处理气体分配给处理空间。根据本发明，...
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