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浸润式光刻系统用的洁净膜清洗片、成分、用法及其应用技术方案
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下载浸润式光刻系统用的洁净膜清洗片、成分、用法及其应用的技术资料
文档序号:3173951
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一种原位清洗半导体机台的物镜的方法。在进行清洗工艺时,仅需将具有洁净膜的清洗片放置在扫瞄支座上,通过溶剂溶解洁净膜中的洁净成分,使洁净成分与物镜上的污染物反应,再由浸润式光刻系统中的液体(水)冲洗物镜,即可将物镜清洗干净。...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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