下载用于蚀刻过程的晶圆保持装置及控制晶圆蚀刻速率的方法的技术资料

文档序号:3173929

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本发明公开了一种用于蚀刻过程的晶圆保持装置,包括底盘;设置于所述底盘上的顶盖,该顶盖设有至少一个物料孔;位于所述底盘上且放置于所述顶盖的物料孔内的底板凸台;及安放于所述底板凸台上且放于所述物料孔内的晶圆夹具,该晶圆夹具承载将进行蚀刻的晶圆。...
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