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制造电子元件的方法技术
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文档序号:3173913
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本发明涉及一种在基底表面上制造电子元件的方法,所述电子元件包括,垂直于基底表面的至少两个电功能层,该两个电功能层是以一个位于另一个之上并且至少在表面区域F中重叠的方式设置。在连续工艺期间,该至少两个电功能层直接或间接在基底上构建。以这样的方...
该专利属于波利IC有限及两合公司所有,仅供学习研究参考,未经过波利IC有限及两合公司授权不得商用。
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