温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种鳍部形貌优化的鳍式晶体管,鳍部包括位于衬底上的第一子鳍部和位于所述第一子鳍部上的第二子鳍部;氧化层,位于所述衬底上,且覆盖所述第一子鳍部和第二子鳍部的侧壁和顶面;其中:沿垂直于所述衬底表面的第一方向,所述第二子鳍部的剖面自上而...该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种鳍部形貌优化的鳍式晶体管,鳍部包括位于衬底上的第一子鳍部和位于所述第一子鳍部上的第二子鳍部;氧化层,位于所述衬底上,且覆盖所述第一子鳍部和第二子鳍部的侧壁和顶面;其中:沿垂直于所述衬底表面的第一方向,所述第二子鳍部的剖面自上而...