温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种栅极的制造方法，包括提供基底，基底上至少已形成有一层栅极材料层。在栅极材料层上形成一层图案的掩模层。进行湿式蚀刻工艺微缩图案的掩模层的横向尺寸。接着以图案的掩模层为掩模，移除部分栅极材料层，而形成具有预定尺寸的栅极。...
该专利属于力晶半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过力晶半导体股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。