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在包括具有用于接收基片的接收表面的基片支架的加工室中加工基片，以便在室内暴露基片前表面。将激发加工气体用于加工基片前表面。通过将基片支架的接收表面之上的基片升高到升起物质并且将基片背部表面暴露于激发清洗气体清洗基片背部表面的外围边缘。...
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