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本发明公开了一种使用等离子体沉积过程制作透明导电氧化物的方法。向等离子体增强化学气相沉积（ＰＥＣＶＤ）系统中提供包含有氧和金属元素的源气体混合物，以辉光放电的方式激活镀膜的前期物质，从而形成金属氧化物薄膜。这种镀膜方式与制作基于氢化硅薄膜的...
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