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本实用新型公开了一种晶圆片研磨装置，包括机架、位于机架顶部的下研磨盘与支撑架、位于下研磨盘正上方并活动安装在支撑架底部的上研磨盘、固设在支撑架顶部并用于带动上研磨盘升降的液压缸以及用于存储抛光液的储液罐，所述下研磨盘的顶部开设有供所述上研磨...
该专利属于厦门陆远科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门陆远科技有限公司授权不得商用。

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