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半导体单晶成长坩埚制造技术
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文档序号:31720492
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本实用新型涉及半导体单晶成长坩埚,其从下至上包括晶种培育段、晶种复壮段、晶种成长段,晶种培育段、晶种复壮段、晶种成长段相连通;所述晶种培育段为具有半球形尖端的圆锥体;所述晶种复壮段包括半椭圆体和下圆台体,半椭圆体与晶种培育段的侧部通过曲线面...
该专利属于朝阳通美晶体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过朝阳通美晶体科技有限公司授权不得商用。
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