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本发明提供硅太阳能电池清洗刻蚀、干燥工艺及其设备，其工艺：先兆声波槽式清洗：利用兆声在去离子水中产生Ｏ↓［３］，并在去离子水中添加ＨＦ，在常温下进行清洗；再将硅片放入去离子水中进行超声清洗；通过以上清洗后，在硅片被抬出液面时进行干燥处理，干...该专利属于苏州纳米技术与纳米仿生研究所所有，仅供学习研究参考，未经过苏州纳米技术与纳米仿生研究所授权不得商用。
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本发明提供硅太阳能电池清洗刻蚀、干燥工艺及其设备，其工艺：先兆声波槽式清洗：利用兆声在去离子水中产生Ｏ↓［３］，并在去离子水中添加ＨＦ，在常温下进行清洗；再将硅片放入去离子水中进行超声清洗；通过以上清洗后，在硅片被抬出液面时进行干燥处理，干...