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本发明公开一种制备方法简单、成本低、对环境无污染且可满足直径为３００ｍｍ晶圆研磨清洗要求的晶圆研磨用清洗剂。所用原料及重量百分比是表面活性剂５％～２０％，含氟羧酸０．１％～１０％，氟化物盐０．０１～５％、ｐＨ调节剂５％～２０％，渗透剂２％～...
该专利属于大连三达奥克化学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。

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