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本发明提供一种溅射沉积设备和方法。设备包括腔体、复数个靶枪、惰性气体供应系统及第二气体供应系统；靶枪位于腔体内，各靶枪上均设置有靶材，复数个靶材绕一垂线对称设置以使得复数个靶材的辉区至少部分重叠以形成重叠沉积区；腔体内设置有载台，衬底上具有...
该专利属于上海集成电路材料研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路材料研究院有限公司授权不得商用。

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