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半导体器件蒸镀缺陷的检测方法技术
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文档序号:31706469
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一种半导体器件蒸镀缺陷的检测方法,包括对蒸镀完成的待测芯片进行加温,使所述待测芯片的导通阻抗增大,获取所述待测芯片的测量导通阻抗数据,根据所述测量导通阻抗数据判断所述待测芯片中是否存在蒸镀缺陷。由于通过使待测芯片升温,使得所述待测芯片内部的...
该专利属于浙江里阳半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江里阳半导体有限公司授权不得商用。
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