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本发明公开了一种提高硅片清洗能力的清洗工艺及其装置,自动分配装置包括放置板和外壳,外壳的内腔固定套接有第二伺服电机,放置板的两侧对称固定开设有第一通槽,第一通槽的内壁对称转动套接有双头丝杆,双头丝杆的一端和第二伺服电机的输出端均固定套接有皮...该专利属于杭州中欣晶圆半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州中欣晶圆半导体股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种提高硅片清洗能力的清洗工艺及其装置,自动分配装置包括放置板和外壳,外壳的内腔固定套接有第二伺服电机,放置板的两侧对称固定开设有第一通槽,第一通槽的内壁对称转动套接有双头丝杆,双头丝杆的一端和第二伺服电机的输出端均固定套接有皮...