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本发明提供一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，该方法包括下列步骤：先于基板上分别形成栅极图案与第一接垫图案，并依序形成栅极绝缘层与半导体层覆盖上述二图案。接着，形成图案化光阻层，并调整图案化光阻层在不同区域的光阻区块厚度与适当图案。再经由刻蚀...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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