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本发明是关于一种应变沟道半导体结构的制造方法，包括：提供具有一有源区的一基底，该基底为具有第一自然晶格常数的第一半导体材料所构成而该有源区为形成于该基底内的至少一隔离区所定义而成；形成至少一第一堆栈栅极于该有源区内；部分蚀刻该基底，于邻近各...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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