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一种发光层图案化方法以及发光二极管器件的制备方法。该发光层图案化方法包括:提供衬底基板;在衬底基板上形成第一电极层;在第一电极层上形成牺牲层;对牺牲层构图,以在衬底基板上的第一区域中去除牺牲层,在衬底基板上的第二区域中保留牺牲层,其中,第一...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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一种发光层图案化方法以及发光二极管器件的制备方法。该发光层图案化方法包括:提供衬底基板;在衬底基板上形成第一电极层;在第一电极层上形成牺牲层;对牺牲层构图,以在衬底基板上的第一区域中去除牺牲层,在衬底基板上的第二区域中保留牺牲层,其中,第一...