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本实用新型公开了用于旋转磨盘的离心式排布研磨处理治具，包括圆环状旋转盘，旋转盘能够在磨盘的带动下自转；旋转盘上配置有若干个长条状定位凸台；若干个定位凸台沿旋转盘的径向由内而外分区排布，并且不同区域内的多个定位凸台具有相同的特征排布，特征排布...
该专利属于苏州领裕电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州领裕电子科技有限公司授权不得商用。

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