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本发明涉及激光熔融电离技术领域，特别涉及一种大气压下激光解析VUV灯后电离成像装置。包括：激光光路系统、成像系统及电离源系统，激光光路系统通过激光对样品表面进行解析产生样品分子；成像系统，对激光解析位点进行成像；电离源系统，通过紫外线光电离...
该专利属于中国科学院大连化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院大连化学物理研究所授权不得商用。

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