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一种等离子体反应器包括真空腔及工件支座。该真空腔包括限定真空室的侧壁和顶板，工件支座在该室内并面向顶板以支撑平面工件，工件支座和顶板共同限定工件支座和顶板间的工作区域。工作气体进气口提供工作气体注入到反应室。等离子源功率电极连到ＲＦ功率发生...
该专利属于应用材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料有限公司授权不得商用。

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