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本发明涉及离子注入机ＩＭＰ，包括脉冲等离子体源ＳＰＬ、衬底支承台ＰＰＳ和所述台的电源ＡＬＴ。所述注入机还包括电容Ｃ，所述电容直接接地Ｅ且安装于所述台电源ＡＬＴ的上游。本发明还涉及使用所述注入机的方法。...
该专利属于离子射线服务公司所有，仅供学习研究参考，未经过离子射线服务公司授权不得商用。

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