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显示器件制备方法技术
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文档序号:31506462
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本申请提供了一种显示器件的制备方法,包括以下步骤:S1,把包含两种以上溶剂组分的功能层墨水通过溶液法加入到像素基板的各个像素坑中,并且使得功能层墨水的液面高度低于像素基板的像素限定层的高度;S2,在像素基板具有像素坑的一侧上接触设置一反渗透...
该专利属于纳晶科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过纳晶科技股份有限公司授权不得商用。
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