显示器件制备方法技术

本申请提供了一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：S1，把包含两种以上溶剂组分的功能层墨水通过溶液法加入到像素基板的各个像素坑中，并且使得功能层墨水的液面高度低于像素基板的像素限定层的高度；S2，在像素基板具有像素坑的一侧上接触设置一反渗透膜，反渗透膜能够使得功能层墨水中的至少一种溶剂通过，且不允许剩余溶剂通过；S3，处理设置有反渗透膜的像素基板，使得功能层墨水中的至少一种溶剂中通过反渗透膜而挥发；S4，待能够通过反渗透膜的溶剂挥发完成后，去除反渗透膜，且处理像素基板，完成对剩余溶剂的干燥。该制备方法有效地降低了咖啡环现象的产生。有效地降低了咖啡环现象的产生。有效地降低了咖啡环现象的产生。

【技术实现步骤摘要】
显示器件制备方法


[0001]本申请涉及显示器件制备
，具体而言，涉及一种显示器件制备方法。

技术介绍

[0002]喷墨打印作为溶液法精细图案化的方法在显示领域有着广泛的应用，尤其是在打印OLED和QLED显示面板的制造过程中有着不可替代的作用。但是由于像素坑的存在，打印出的溶液在干燥过程中难免出现咖啡环的现象。这种现象的主要原因是在裸露的像素坑中溶液中间区域与边缘区域溶剂挥发不一致导致的。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于提供一种显示器件的制备方法，以解决现有溶液法制备发光二极管时存在的膜层不均匀的问题。
[0004]因此，本申请提供了一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：S1，把包含两种以上溶剂组分的功能层墨水通过溶液法加入到像素基板的各个像素坑中，并且使得上述功能层墨水的液面高度低于上述像素基板的像素限定层的高度；S2，在上述像素基板具有像素坑的一侧上接触设置一反渗透膜，上述反渗透膜能够使得上述功能层墨水中的至少一种溶剂通过，且不允许剩余溶剂通过；S3，处理设置有上述反渗透膜的像素基板，使得功能层墨本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，把包含两种以上溶剂组分的功能层墨水通过溶液法加入到像素基板的各个像素坑中，并且使得所述功能层墨水的液面高度低于所述像素基板的像素限定层的高度；S2，在所述像素基板具有像素坑的一侧上接触设置一反渗透膜，所述反渗透膜能够使得所述功能层墨水中的至少一种溶剂通过，且不允许剩余溶剂通过；S3，处理设置有所述反渗透膜的像素基板，使得功能层墨水中的至少一种溶剂中通过所述反渗透膜而挥发；S4，待能够通过反渗透膜的溶剂挥发完成后，去除反渗透膜，且处理所述像素基板，完成对剩余溶剂的干燥。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述像素限定层的高度大于1μm。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述功能层墨水包括功能层材料，功能层材料的良溶剂和不良溶剂，其中所述良溶剂能够通过所述反渗透膜，所述不良溶剂不能通过所述反渗透膜。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述功能层墨水为量子点墨水。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述量子点墨水的良溶剂为...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈涛，何明明，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：