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本发明披露了一种用于管状磁控溅射设备的端块。这种端块将运动，冷却剂（５）以及电流可转动地传递至靶材上，同时，保持真空的完整性以及封闭的冷却剂回路。该端块包括驱动装置，旋转式电接触装置，支承装置，多个旋转式冷却剂密封装置，多个真空密封装置。本...
该专利属于贝卡尔特先进涂层公司所有，仅供学习研究参考，未经过贝卡尔特先进涂层公司授权不得商用。

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