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CMOS图像传感器及其形成方法技术
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文档序号:31503914
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本发明提供一种CMOS图像传感器及其形成方法,通过对半导体衬底表面形成的氧化层进行氮化处理,作为自对准硅化物阻挡层,所形成的氮化
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该专利属于格科微电子(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过格科微电子(上海)有限公司授权不得商用。
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