温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体器件及其形成方法,其中半导体器件包括:基底;栅极结构,位于所述基底上,包括第一区和第二区,所述第一区的栅极结构长度大于所述第二区的栅极结构长度;分割段,位于所述第一区的栅极结构内,所述分割段的顶部表面高于所述栅极结构的顶部表面;用...该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体器件及其形成方法,其中半导体器件包括:基底;栅极结构,位于所述基底上,包括第一区和第二区,所述第一区的栅极结构长度大于所述第二区的栅极结构长度;分割段,位于所述第一区的栅极结构内,所述分割段的顶部表面高于所述栅极结构的顶部表面;用...