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本申请实施例提供了一种薄膜制备方法及设备，薄膜制备设备可以包括位于反应腔室中的衬底支撑件，以及位于衬底支撑件上表面凹槽中的绝缘柱，在绝缘柱置入凹槽中时，绝缘柱的上表面突出衬底支撑件的上表面，绝缘柱为多个，用于固定衬底，绝缘柱突出衬底支撑件上...
该专利属于拓荆科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技股份有限公司授权不得商用。

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