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一种半导体结构及其形成方法，方法包括：提供基底，基底上形成有图形传递材料层；进行第一离子注入，向图形传递材料层中掺杂第一离子，形成排布方向为第一方向的第一掺杂掩膜层；在第二方向上，在第一掺杂掩膜层两侧的图形传递材料层中形成第一沟槽，露出第一...
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