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提供一种能够选择性地蚀刻氧化物的蚀刻方法。蚀刻方法具备蚀刻工序，在该蚀刻工序中，将具有氧化物的蚀刻对象物(12)设置在腔室(10)内，使用含有含氟化合物的蚀刻气体，在腔室(10)内对蚀刻对象物(12)所具有的氧化物进行蚀刻，该含氟化合物具有...
该专利属于昭和电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过昭和电工株式会社授权不得商用。

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