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一种高晶面择优取向铜箔的室温电沉积制备方法，包括：步骤1)：将五水合硫酸铜用去离子水溶解，并加入少量浓硫酸配制成pH值为0.9
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该专利属于南开大学所有，仅供学习研究参考，未经过南开大学授权不得商用。

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