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等离子掺杂装置包括反应室以及等离子源，等离子源在反应室中自掺杂剂气体产生离子。格栅定位于反应室中。用于支撑目标的压板定位于反应室中。格栅以及目标中至少一者经定向以使得自格栅提取的掺杂剂离子以非垂直入射角冲击目标。...
该专利属于瓦里安半导体设备公司所有，仅供学习研究参考，未经过瓦里安半导体设备公司授权不得商用。

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