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一种用于保护ＥＵＶ光源（２０）的内部元件（３０）免受在等离子体形成位置（２８）上所产生且最初被引向内部元件（３０）的离子（２０６ａ，２０６ｂ）的影响的系统，所述系统包括：至少一个箔片（１８０），插入在内部元件（３０）和等离子体形成位置（２８...
该专利属于西默股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西默股份有限公司授权不得商用。

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