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本实用新型公开了一种半导体设备反应腔室的匀流装置、反应腔室和半导体设备，其中匀流装置包括：匀流板；匀流板的内部沿匀流板的厚度方向间隔设有上层气流通道和下层气流通道；上层气流通道和下层气流通道均从匀流板的中央延伸至匀流板的侧壁边缘；匀流板的中...
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