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根据本发明的一个方面，提供一种衬底处理系统。该系统可以包括围绕室的室壁；被设置在所述室中的衬底支架，用于支撑衬底；电磁放射源，用于发射电磁放射线至衬底支架上的衬底上，所述电磁放射线使光电子从所述衬底上的材料被发射出来；分析器，用于捕获从衬底...
该专利属于瑞沃瑞公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞沃瑞公司授权不得商用。

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