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用于冗余阳极溅射的方法和系统技术方案
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下载用于冗余阳极溅射的方法和系统的技术资料
文档序号:3148736
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本发明涉及一种方法,用于基底覆层,具有被构成为磁控管的阴极,在该阴极旁边两个电极被交替地施加以正电势(阳极电势)或负电势,本发明还涉及一种用于基底覆层的系统,该系统具有真空室、磁控管阴极、两个电极和电压源,本发明的任务在于,通过提高层厚均匀...
该专利属于冯.阿德纳设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过冯.阿德纳设备有限公司授权不得商用。
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