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制作至少一个溅射涂覆基板的方法及溅射源技术
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文档序号:3148444
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利用恒定磁场(H↓[s])进行溅射。通过将调制磁场(Hm)叠加到所述恒定磁场(H↓[s]),调制邻近负责该恒定磁场的磁极之一的该恒定磁场(H↓[s]),由此最小化或略去经历再次沉积的溅射表面(3)的未被侵蚀区域。...
该专利属于OC欧瑞康巴尔斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过OC欧瑞康巴尔斯公司授权不得商用。
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