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存储器器件以及形成存储器器件的方法技术
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文档序号:31479778
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本公开涉及一种存储器器件以及形成存储器器件的方法。可以提供一种存储器器件,其包括:第一、第二和第三电极、第一和第二掩模元件、以及切换层。第一掩模元件可被布置在第一电极的部分之上并且与第一电极横向偏移。第二电极可被布置在第一掩模元件之上。第二...
该专利属于格芯新加坡私人有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过格芯新加坡私人有限公司授权不得商用。
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