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本公开涉及清洗系统及其使用方法。本公开提供一种清洗系统，该清洗系统包括第一子室、与第一子室相邻的第二子室、以及与第二子室相邻的第三子室。第一分隔件位于第一子室与第二子室之间。第二分隔件位于第二子室与第三子室之间。真空系统联接到第三子室，以在...
该专利属于波音公司所有，仅供学习研究参考，未经过波音公司授权不得商用。

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