清洗系统及其使用方法技术方案

本公开涉及清洗系统及其使用方法。本公开提供一种清洗系统，该清洗系统包括第一子室、与第一子室相邻的第二子室、以及与第二子室相邻的第三子室。第一分隔件位于第一子室与第二子室之间。第二分隔件位于第二子室与第三子室之间。真空系统联接到第三子室，以在第三子室中生成小于第一子室的压力的真空压力，以创建压差来引起从第一子室通过位于第二子室中的部件的内部通道到第三子室的第一清洗剂的加压流。过滤系统联接到第一子室和第三子室，以去除和过滤来自第三子室的第一清洗剂，并且将该第一清洗剂返回到第一子室。该第一清洗剂返回到第一子室。该第一清洗剂返回到第一子室。

【技术实现步骤摘要】
清洗系统及其使用方法


[0001]本公开的多个方面涉及清洗工业设备的通道以及可以使用工业设备制造的零件和组件的内部通道。

技术介绍

[0002]可以采用各种类型的工业设备来制造和组装跨多个行业的零件。这种工业设备可以包括具有一个或更多个内部通道的工程部件。同样，由该工业设备制造或以其他方式制造的零件也可以包括一个或更多个内部通道。各种部件的内部通道以及使用工业设备制造和组装的零件可能会在其内部通道中积聚污染物的堆积。考虑到该堆积所在的位置，去除这些内部通道中的堆积可能具有挑战性。此外，用于去除堆积的清洗方法会遗留残留物，这些残留物可能对工业设备和各种部件的将来使用造成危害。因此，仍然需要一种改进的清洗内部通道的方法。

技术实现思路

[0003]本公开提供了一种清洗系统。在一个方面，该清洗系统包括清洗室，该清洗室包括：第一子室，第一子室被配置为保持第一清洗剂；第二子室，第二子室与第一子室相邻；以及第一分隔件，第一分隔件位于第一子室与第二子室之间，第一分隔件中形成有第一孔。该清洗室还包括：第三子室，第三子室与第二子室相邻，并且被配置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗系统(300)，所述清洗系统(300)包括：清洗室(302)，所述清洗室(302)包括：第一子室(310)，所述第一子室(310)被配置为保持第一清洗剂；第二子室(308)，所述第二子室(308)与所述第一子室(310)相邻；第一分隔件(314)，所述第一分隔件(314)位于所述第一子室(310)与所述第二子室(308)之间，所述第一分隔件(314)中形成有第一孔(342)；第三子室(306)，所述第三子室(306)与所述第二子室(308)相邻，并且被配置为接收所述第一清洗剂；以及第二分隔件(312)，所述第二分隔件(312)位于所述第二子室(308)与所述第三子室(306)之间，所述第二分隔件(312)中具有形成的第二孔(344)，所述第一孔(342)和所述第二孔(314)被配置为形成通过所述第二子室(308)的流体路径；真空系统(304)，所述真空系统(304)联接到所述第三子室(306)，所述真空系统(304)被配置为在所述第三子室(306)中生成压力，该压力小于所述第一子室(310)的压力，以引起从所述第一子室(310)到所述第三子室(306)的所述第一清洗剂的加压流；以及过滤系统(334)，所述过滤系统(334)联接到所述第一子室(310)和所述第三子室(306)，所述过滤系统(334)被配置为去除和过滤来自所述第三子室(306)的所述第一清洗剂，并且将该第一清洗剂返回到所述第一子室(310)。2.根据权利要求1所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：第一联接机构(322)，所述第一联接机构(322)经由所述第一孔(342)可移除地联接到所述第一分隔件(314)；以及第二联接机构(318)，所述第二联接机构(318)经由所述第二孔(344)可移除地联接到所述第二分隔件(312)。3.根据权利要求2所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：部件(316)，所述部件(316)位于所述第二子室(308)中，所述部件(316)具有：所述部件(316)的第一端(324)，所述第一端(324)被可移除地联接到所述第一联接机构(322)；所述部件(316)的第二端(320)，所述第二端(320)被可移除地联接到所述第二联接机构(318)；外表面(352)；以及内表面(360)，所述内表面(360)限定了从所述部件(316)的所述第一端(324)延伸到所述部件(316)的所述第二端(320)的至少一个内部通道(350)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：第一容器(340)，所述第一容器(340)联接到所述第一子室(310)，所述第一容器(340)中具有所述第一清洗剂并被配置为将所述第一清洗剂输送到所述第一子室(310)中。5.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：第二容器(338)，所述第二容器(338)联接到所述第二子室(308)，所述第二容器(338)具有第二清洗剂并被配置为将所述第二清洗剂输送到所述第二子室(308)中。6.一种清洗系统(500)，所述清洗系统(500)包括：多个清洗室(518)，所述多个清洗室(518)中的每个清洗室包括：
第一子室(506)，所述第一子室(506)被配置为保持第一清洗剂；搅动器(516)，所述搅动器(516)联接到所述第一子室(506)，所述搅动器(516)被配置为开始并维持所述第一清洗剂的旋转速度；第二子室(504)，所述第二子室(504)与所述第一子室(506)相邻；第一分隔件(522)，所述第一分隔件(522)位于所述第一子室(506)与所述第二子室(504)之间，所述第一分隔件(522)中形成有多个第一孔；第三子室(502)，所述第三子室(502)与所述第二子室(504)相邻，并且被配置为接收所述第一清洗剂；以及第二分隔件(520)，所述第二分隔件(520)位于所述第二子室(504)与所述第三子室(502)之间，所述第二分隔件中形成有多个第二孔(618)，所述多个第一孔中的每个第一孔和所述多个第二孔中的每个第二孔被配置为形成通过所述第二子室的流体路径；真空系统(536)，所述真空系统(536)与所述多个清洗室(518)中的每个清洗室的所述第三子室(502)联接，所述真空系统(536)被配置为在所述第三子室(502)中生成压力，所述第三子室(502)的所述压力小于所述第一子室(506)的压力，以引起从所述第一子室(506)到所述第三子室(502)的所述第一清洗剂的加压流；以及过滤系统(534)，所述过滤系统(534)联接到所述多个清洗室(518)中的每个清洗室的所述第一子室(506)和所述第三子室(502)，所述过滤系统(534)被配置为去除和过滤来自每个清洗室的所述第三子室(502)的所述第一清洗剂，并且将经过滤的第一清洗剂返回到每个清洗室的所述第一子室(506)。7.根据权利要求6所述的清洗系统(500)，所述清洗系统(500)还包括：第一联接机构(614A
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614F)，所述第一联接机构(614A
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614F)经由多个第一通孔(616)中的第一通孔可移除...

【专利技术属性】
技术研发人员：O，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：