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本发明公开了一种等离子体处理装置及其调节方法，该装置包含：真空反应腔，包括反应腔侧壁，所述反应腔侧壁设有基片传输口；下电极组件，设于所述真空反应腔内底部；等离子体约束装置，设于所述下电极组件的外围；接地环，设置于所述等离子体约束装置下方；调...
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