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本发明公开了一种改善金属剥离效率的光刻版，包括：基版、梯形台结构和铬层，基于一种改善金属剥离效率的光刻版提出了一种光刻方法，在基片表面均匀涂覆一层负性光刻胶，对涂胶后的基片进行一次烘烤，将光刻版通过压力压入涂有负性光刻胶的基片，同时进行抽真...
该专利属于山东华光光电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东华光光电子股份有限公司授权不得商用。

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