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本发明公开了一种青蒿素&吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用。所述复合材料包括：超薄水滑石纳米片，以及负载于其上的青蒿素或被聚合物保护的青蒿素和吲哚菁绿。其制备方法是：先用一种“自上而下”的方法合成超薄水滑石纳米...
该专利属于中国科学院理化技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院理化技术研究所授权不得商用。

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