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本实用新型公开了一种集成电路晶圆快排清洗装置，涉及集成电路晶圆制作过程中清洗技术领域，包括清洗槽和排水储槽，清洗槽的内部顶端两侧均安装有进水管，进水管位于清洗槽内部的一端下方安装有清洗喷头，进水管的另一端延伸至清洗槽的外部且与外接水管连接，...
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