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本实用新型涉及晶片持取装置的供气装置，包括供气管道，其中，供气管道的末端具有第一直管段，持取用气经第一直管段进入晶片持取装置，第一过滤器，设置于第一直管段上，用于过滤经过的持取用气，外界管道与供气管道的连接位置设置在供气管道上除第一直管段外...
该专利属于上海晶盟硅材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海晶盟硅材料有限公司授权不得商用。

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