温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光刻多余图形的检测方法，包括：步骤1：光刻机在涂布有光刻胶的硅片上曝光管芯区域，设定硅片上的光刻版曝光区域为完整的管芯区域；控制光刻机工作台使硅片沿X方向和Y方向歩进M次，每次步进距离为N；其中，步进次...
该专利属于无锡职业技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过无锡职业技术学院授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。