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本申请实施例提供了一种用于超表面加工的光刻系统及方法，属于超表面领域。该系统包括包括光源、曝光投影系统和将光刻对象的第一面和第二面对准的双面标记对准系统，双面标记对准系统包括准直光源、显微系统、工作台及控制系统，为了进行超表面的光刻系统的双...
该专利属于深圳迈塔兰斯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳迈塔兰斯科技有限公司授权不得商用。

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